टाइटेनियम हीटिंग ट्यूब क्रेविस संक्षारण और स्लिट प्रवेश रिसाव विफलता और पूर्ण -प्रक्रिया रोकथाम नियंत्रण योजना का तंत्र

क्रेविस संक्षारण प्रवेश विफलता टाइटेनियम हीटिंग पाइप फ्लैंग्स, गास्केट, बोल्ट संपर्क सतहों, लैप वेल्डिंग सीम और पाइपलाइन तलछट जमा के बीच मौजूदा संकीर्ण अंतराल को संदर्भित करती है। संक्षारक माध्यम सीमित स्लिट के अंदर फंसा हुआ है और इसे अद्यतन और प्रसारित नहीं किया जा सकता है। अंतराल के अंदर ऑक्सीजन विद्युत रासायनिक प्रतिक्रियाओं द्वारा तेजी से खपत होती है, जिससे ऑक्सीजन की कमी वाला सूक्ष्म वातावरण बनता है। क्लोराइड आयन और एसिड रेडिकल लगातार चार्ज संतुलन के लिए अंतराल में स्थानांतरित होते हैं, जिसके परिणामस्वरूप स्थानीय अम्लीकरण होता है और संक्षारक आयन एकाग्रता में तेज वृद्धि होती है। गैप के अंदर टाइटेनियम डाइऑक्साइड निष्क्रिय फिल्म पूरी तरह से नष्ट हो जाती है, और धातु मैट्रिक्स स्लिट गहराई दिशा के साथ अधिमानतः घुल जाता है जब तक कि पाइप की दीवार में रिसाव न हो जाए। यह संक्षारण अत्यधिक छिपा हुआ होता है और अधिकतर टाइटेनियम विरोधी जंग हीटिंग पाइपलाइनों के असेंबली अंतराल और जमा मृत क्षेत्रों पर टूटता है।

1. अवरुद्ध अंतराल संवर्धन और दरार संक्षारण विकास तंत्र

टाइटेनियम बहने वाले तनु संक्षारक माध्यम में संक्षारण का विरोध करने के लिए एक कॉम्पैक्ट TiO₂ निष्क्रिय फिल्म पर निर्भर करता है। खराब द्रव विनिमय के साथ संकीर्ण दरारों में, स्लिट के अंदर कैथोड ऑक्सीजन कमी प्रतिक्रिया तेजी से घुलित ऑक्सीजन को ख़त्म कर देती है। अंतराल के भीतर का क्षेत्र निष्क्रियता की स्थिति खो देता है और निरंतर धातु विघटन के लिए एनोड बन जाता है, जबकि पर्याप्त ऑक्सीजन के साथ बाहरी उजागर सतह मैक्रो गैल्वेनिक सेल बनाने के लिए कैथोड के रूप में कार्य करती है। सीमित स्थान में विद्युत तटस्थता बनाए रखने के लिए, बाहरी हैलोजन आयन लगातार दरार में चले जाते हैं, जिससे अत्यधिक केंद्रित अम्लीय संक्षारक तरल बनता है जो स्थायी रूप से निष्क्रिय फिल्म सुधार को रोकता है। एकल छोटे बिंदुओं पर शुरू होने वाले गड्ढे के क्षरण के विपरीत, दरार का क्षरण संपूर्ण अंतराल रेखा के साथ विकसित होता है, जो रैखिक मर्मज्ञ संक्षारण क्षति प्रस्तुत करता है।

2. दरार संक्षारण क्षति की संभावना वाली विशिष्ट स्थितियाँ

फ्लैंज सीलिंग सतह, गैर-फिट गास्केट और टाइटेनियम पाइप फ्लैंगिंग अंतिम चेहरे के बीच संकीर्ण अंतर;

लैप वेल्डिंग, आंतरायिक वेल्डिंग और अपूर्ण संलयन के साथ अनटाइट वेल्ड स्लिट;

टाइटेनियम पाइपलाइन और स्थिर समर्थन, क्लैंप और घेरा सहायक उपकरण के बीच संपर्क अंतराल;

क्षैतिज पाइपलाइन निचली तलछट संचय परतें गंदगी और पाइप की भीतरी दीवार के बीच बंद अंतराल बनाती हैं;

उपकरण के थ्रेडेड कनेक्शन गैप छोटे पाइपों को हटा देते हैं और ब्लाइंड होल को बंद कर देते हैं।

3. दरार संक्षारण विफलता को तेज करने वाले मुख्य प्रेरक कारक

गैस्केट के आकार का बेमेल होना, फ्लैंज की सतह पर खरोंचें और विरूपण के कारण सीलिंग में रिक्त स्थान नहीं भरे गए;

वेल्डिंग प्रक्रिया बट वेल्डिंग के बजाय लैप संयुक्त संरचना को अपनाती है, जिससे अंतर्निहित अवशिष्ट स्लिट निकल जाते हैं;

सीधे संपर्क अंतराल को खत्म करने के लिए पाइप बॉडी और सपोर्ट के बीच कोई इन्सुलेशन कुशन नहीं;

पाइपलाइन में नियमित रूप से उड़ाही और सफाई का अभाव है, तलछट एकत्रित होकर अवरुद्ध संक्षारक स्थान बनाती है;

सिस्टम माध्यम में क्लोराइड और फ्लोराइड आयन होते हैं जो अंतराल के अंदर आयन संवर्धन को काफी तेज करते हैं।

4. संपूर्ण -लिंक रोकथाम और नियंत्रण तकनीकी उपाय

① असेंबली से पहले पूरी तरह फिट इंटीग्रल गास्केट अपनाएं और फ्लैंज सीलिंग सतहों को पॉलिश करें

सीलिंग मेटिंग सतह पर असंतुलित छोटे अंतराल को हटा दें।

② पूर्ण प्रवेश बट वेल्डिंग को प्राथमिकता देने और सभी अवशिष्ट वेल्ड स्लिट्स को सील करने के लिए वेल्डिंग डिज़ाइन को अनुकूलित करें

वेल्डिंग कनेक्शन फॉर्म द्वारा उत्पन्न संरचनात्मक दरारों से बचें।

② पाइपलाइन और धातु समर्थन के बीच इन्सुलेटिंग गैर-{0}}प्रवाहकीय गैस्केट जोड़ें

संपर्क अंतराल और गैल्वेनिक युग्मन स्थितियों को एक साथ काटें।

④ निम्न -पॉइंट ड्रेन आउटलेट सेट करें और समय-समय पर ब्लोडाउन और पिगिंग सफाई लागू करें

तलछट जमाव को संलग्न संक्षारण अंतराल बनने से रोकें।

⑤ निरीक्षण के लिए नियमित रूप से कुंजी निकला हुआ किनारा जोड़ों को अलग करें और पुराने विकृत गैसकेट को बदलें

गैस्केट की उम्र बढ़ने और संपीड़न विरूपण के कारण होने वाली छिपी हुई दरारों को समय पर समाप्त करें।

5. रोकथाम प्रभाव तुलना तालिका

表格

निष्कर्ष

टाइटेनियम हीटिंग ट्यूब क्रेविस संक्षारण खराब माध्यम परिसंचरण से शुरू होता है

एन सीमित स्लिट्स में, ऑक्सीजन की कमी और संक्षारक आयन संवर्धन जो टाइटेनियम निष्क्रिय फिल्म को तोड़ता है, जिससे अंतराल के साथ रैखिक प्रवेश होता है। मुख्य रोकथाम रणनीतियों में मानकीकृत सीलिंग और वेल्डिंग डिजाइन के माध्यम से असेंबली और संरचनात्मक अंतराल को खत्म करना, सहायक सहायक उपकरण के साथ संपर्क अंतराल को अलग करना, नियमित रूप से पाइपलाइन तलछट को हटाना और सीलिंग घटकों की अखंडता को बनाए रखना शामिल है। पाइपलाइन संरचनात्मक डिजाइन, फील्ड इंस्टॉलेशन निर्माण और नियमित रखरखाव की पूरी प्रक्रिया बंद हो गई है, जिससे टाइटेनियम हीटिंग ट्यूबों के दरार क्षरण से प्रेरित मध्यम रिसाव और उपकरण विफलता दुर्घटनाओं को रोका जा सकता है।